三星电子推出3纳米芯片制造工艺设计工具和技术

，据国外媒体报道，上周六，三星电子推出了多款与3纳米芯片制造工艺相关，有助于强化代工生态系统战略的设计工具和技术。

根据此前消息，三星电子的3纳米制程工艺将采用GAA技术与基于FinFET技术的5纳米工艺相比，三星首个3纳米GAA工艺节点的性能将提升30%，功耗将降低50%，芯片面积将减少35%

今年10月份，三星电子宣布，它将于2022年上半年开始量产3纳米芯片，这一时间表将在台积电之前根据消息显示，台积电计划在2022年7月量产3纳米芯片如果按照三星电子的计划，它将成为全球第一家量产3纳米芯片的代工厂

上周，外媒报道称，AMD和高通可能将成为三星3纳米芯片制程工艺的首批客户。全文统计描述：1)搜索关键词：MLCC及其相似或相关关键词；2)搜索范围：标题，摘要，权利说明；3)筛选条件：简单亲族重复申请，法律地位为实质审查，授权，PCT国际公布，PCT进入指定国家(指定期限)，简单亲族重复申请按接收地统计。4)统计截止日期为9月3日，2021。5)如有特殊统计口径，在图表下方备注。。

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