韩国公司开发首款EUV光刻胶通过三星可靠性测试：打破完全依赖海外供应商的

韩国光刻胶供应商东进世美肯 表示，最近几天通过了三星电子的 EUV 光刻胶可靠性测试这款光刻胶为双方合作研发，打破韩国 EUV 光刻胶完全依赖海外供应商的局面，最快有望明年上半年向产线批量供应

据 ETNews 报道，业内人士表示，东进世美肯在其位于京畿道的华城工厂开发了 EUV 光刻胶，并在三星电子的华城 EUV 生产线进行了测试，最终获得了资格并补充道:两家公司的合作，使得 EUV 光刻胶能够以高技术水平快速开发

根据消息显示，虽然 KrF 和 ArF 氟化物工艺的光刻胶在韩国已经大量生产，但没有能够绘制更精细电路的 EUV 光刻胶这是因为开发非常困难，韩国国内使用的 EUV 光刻胶大部分是从日本进口的

2019 年日本出台出口限制措施后，东进世美肯开始利用自己的基础设施，如现有的氟化氩曝光机和比利时半导体研究所的 EUV 设备，将 EUV 光刻胶本土化同时，三星提供了 EUV 测试环境并且成功提高了光刻胶质量，使其能够被成功应用

三星是否会立即在其半导体产线上使用东进世美肯的 EUV 光刻胶，还有待观察通常情况下，测试合格后就会用于大批量生产因此，有人预测，最早将于明年上半年供应

双方拒绝就 EUV 光刻胶认证是否通过一事向 ETNews 发表评论三星有关人士表示:无法与合作伙伴确认是否通过 EUV 光刻胶验证，正在努力使半导体材料，零部件，设备多样化

该技术的加工精度可达14nm，接近天然丝蛋白的单分子尺寸，比以往技术高一个数量级。

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