鲁东网 - 鲁东生活门户
新闻检索:
当前位置: 鲁东网 -> 财经

DBHiTek将采用硅基氮化镓技术改进8英寸半导体工艺

栏目:财经    时间:2022-01-06 06:27   来源: IT之家   阅读量:6617   

,韩国晶圆代工厂商 DB HiTek 通过在硅晶圆片上制作由氮化镓 材料制成的薄膜来生产半导体芯片,该技术能够响应通信设备,电动汽车充电器和太阳能转换器等快速增长的市场。

DBHiTek将采用硅基氮化镓技术改进8英寸半导体工艺

图源:etnews

据韩媒 etnews 报道,GaN 是下一代半导体材料,可提高通信设备,电动汽车快速充电器和太阳能转换器的电源效率DB HiTek 将生产基于硅基氮化镓 技术的 8 英寸半导体,该技术预计可以通过提高半导体制造的竞争力来简化晶片加工以增强盈利能力

根据消息显示,DB HiTek 预计今年将利用其忠北工厂来应对 8 英寸市场,该公司计划通过充分利用忠北的 Sangwoo fab 产能或进行额外投资来满足对电动汽车和电动设备等 8 英寸半导体的需求。10月8日,美国商务部于9月23日召开半导体峰会,TSMC,英特尔,三星,美光等工业巨头出席。据韩媒报道,面对芯片短缺,美国商务部要求TSMC,三星等半导体公司交出被视为商业机密的库存,订单,销售记录等数据,可能会削弱大厂商的议价能力和竞争力。。

郑重声明:此文内容为本网站转载企业宣传资讯,目的在于传播更多信息,与本站立场无关。仅供读者参考,并请自行核实相关内容。